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應(yīng)用領(lǐng)域

APPLICATION

產(chǎn)品介紹

Product Introduction

真空鍍膜機(jī)簡(jiǎn)介


        真空鍍膜機(jī)主要指一類需要專門在較高真空度下進(jìn)行鍍膜的高精密設(shè)備,其中鍍膜工藝具體包括真空電阻加熱蒸發(fā)、電子槍加熱蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積、離子束濺射等多種,但主要還是分為 蒸發(fā)沉積鍍膜 和 濺射沉積鍍膜 兩種。    

        需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

        蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面,通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。

        對(duì)于濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程,最終形成薄膜。

        我司自主研發(fā)的系列鍍膜機(jī)適用于在玻璃、樹(shù)脂、陶瓷、金屬等各類材質(zhì)表面鍍制AR膜、硬質(zhì)膜、濾光膜、高反膜等各類薄膜,具有高生產(chǎn)效率、高穩(wěn)定性、高重復(fù)性的特點(diǎn),適合大批量連續(xù)作業(yè)的需求。

        負(fù)責(zé)產(chǎn)品研發(fā)及生產(chǎn)的總工程師,來(lái)自日本頂級(jí)鍍膜設(shè)備制造企業(yè),擁有多年各類全自動(dòng)光學(xué)真空鍍膜設(shè)備的開(kāi)發(fā)及制造經(jīng)驗(yàn)。全系列產(chǎn)品在南陽(yáng)工廠完成整體生產(chǎn)及出廠調(diào)試,與國(guó)外同類產(chǎn)品相比,具有貼近用戶需求、性價(jià)比高、售后服務(wù)及時(shí)等明顯優(yōu)勢(shì)。



真空鍍膜機(jī)特性

  1. 01
    腔體直徑
    Φ600-Φ2350mm
  2. 02
    工件盤選擇
    球星、行星、自動(dòng)翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)
  3. 03
    抽氣系統(tǒng)選擇
    擴(kuò)散泵分子泵
  4. 04
    離子源選擇
    射頻離子源
    霍爾離子源
    考夫曼源
  5. 05
    電子槍選擇
    單、雙電子槍選擇,可滿足百層鍍膜需求
  6. 06
    全自動(dòng)
    全自動(dòng)
    控制軟件

應(yīng)用領(lǐng)域

Application

智能手機(jī)薄膜種類

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